高分辨率FEB測長儀器 CG5000 (HITACHI CD-SEM) 參考價：面議
適用于1Xnm級開發(fā)以及22nm級量產(chǎn)流程的測長SEM CG5000CG5000革新了運送類系統(tǒng)，并通過對電子光學(xué)技術(shù)及圖像處理技術(shù)的改良，實現(xiàn)了有史以來（注1...
半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)9000系列 參考價：面議
20納米世代后的裝置對精度和工藝要求非常高，如雙重圖案和3D構(gòu)造，以及針對新材料相對應(yīng)的高精密度復(fù)雜制程要求，包含后道處理和形成保護膜等。為了對應(yīng)這類下一代器件...
高解析度FEB測量裝置CG6300（HITACHI CD-SEM） 參考價：面議
CG6300提供更高的解析度、測量再現(xiàn)性以及高畫質(zhì)高解析度FEB測量裝置（CD-SEM）CG6300通過電子光學(xué)系統(tǒng)的全新設(shè)計提高了解析度，并進一步提高了測量可...
高速缺陷觀測設(shè)備CR6300(Defect Review SEM) 參考價：面議
運用ADR和高精度ADC來為提高良率做貢獻的Inline缺陷觀測SEM。
高解析度FEB測量裝置CS4800（CD-SEM） 參考價：面議
適用于對應(yīng)4、6、8英寸晶圓的測量SEM搭載日立技術(shù)的CD-SEM CS4800兼容4、6、8英寸晶圓的CD測量，提供高解析度的SEM成像，更高的測量精度和快速...
基于設(shè)計數(shù)據(jù)的計量系統(tǒng) 參考價：面議
基于設(shè)計數(shù)據(jù)的計量系統(tǒng)
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